屹唐股份:半導(dǎo)體前道設(shè)備“隱形冠軍”
屹唐股份(688729)成立于2015年,是一家專注于集成電路前道核心裝備的高端制造企業(yè)。公司致力于干法去膠(DryStrip)、干法刻蝕和等離子體表面處理及快速熱處理(RTP)等關(guān)鍵設(shè)備的研發(fā)與制造,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于先進(jìn)晶圓制造工藝,客戶涵蓋中芯國際、臺積電、三星、英特爾等全球領(lǐng)先的集成電路制造企業(yè)。近年來,公司業(yè)績穩(wěn)健增長,2020年至2024年營收和凈利潤C(jī)AGR(復(fù)合年增長率)分別為18.97%和116.18%。2025年前三季度,公司營收和凈利潤分別為37.96億元和5.17億元,同比增速分別為14.01%和22.73%。
全球半導(dǎo)體設(shè)備市場已逐漸走出低谷,需求回暖帶動行業(yè)重回上行通道。作為集成電路產(chǎn)業(yè)的核心環(huán)節(jié),半導(dǎo)體設(shè)備的重要性隨著器件尺寸縮小、結(jié)構(gòu)復(fù)雜度提升而進(jìn)一步增強(qiáng)。2023年,受消費電子需求疲軟及晶圓廠資本開支放緩影響,市場短期承壓,出貨金額降至1062億美元,同比下降1.3%。隨著庫存去化結(jié)束及下游需求回暖,2024年市場規(guī)模迅速回升至1171億美元,同比增長10%,創(chuàng)歷史新高。展望未來,伴隨晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)和先進(jìn)制程投資的持續(xù)推進(jìn),預(yù)計2025年市場規(guī)模將增至1255億美元,2026年進(jìn)一步達(dá)到1381億美元,行業(yè)進(jìn)入新一輪成長周期。
中國大陸市場份額連續(xù)多年穩(wěn)居全球第一,已成為全球半導(dǎo)體設(shè)備增量核心。受益于本土晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)及國產(chǎn)設(shè)備滲透率提升,中國大陸市場份額自2020年的26.3%躍升至2024年的42.3%,提升逾16個百分點。2024年銷售額約為495.5億美元,顯著領(lǐng)先中國臺灣、北美、韓國等地區(qū)。未來,隨著先進(jìn)產(chǎn)能建設(shè)加碼和國產(chǎn)替代進(jìn)程加快,中國大陸市場份額仍具提升空間,有望繼續(xù)成為推動全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)增長的核心驅(qū)動力。
屹唐股份是中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè),在干法去膠設(shè)備和快速熱處理設(shè)備領(lǐng)域,全球市場占有率穩(wěn)居第二,干法刻蝕設(shè)備位列全球前十,技術(shù)實力達(dá)到國際領(lǐng)先水平。截至2024年末,公司產(chǎn)品全球累計裝機(jī)數(shù)量已超過4800臺,服務(wù)的客戶全面覆蓋全球前十大芯片制造商和國內(nèi)行業(yè)領(lǐng)先芯片制造商。根據(jù)Gartner統(tǒng)計數(shù)據(jù),2023年,公司干法去膠設(shè)備、快速熱處理設(shè)備分別憑借34.60%、13.05%的市場占有率,均位居全球第二,干法刻蝕設(shè)備市場占有率排名全球第九。
公司在干法去膠設(shè)備技術(shù)積累深厚,應(yīng)用廣泛。公司干法去膠產(chǎn)品歷經(jīng)三十余年研發(fā)與應(yīng)用沉淀,核心產(chǎn)品具備工藝窗口寬、顆粒污染小、成本結(jié)構(gòu)優(yōu)等顯著特點,廣泛應(yīng)用于晶圓制造前道去膠工藝環(huán)節(jié),適配DRAM、3DNAND、邏輯芯片等多類晶圓平臺,并已形成從常規(guī)去膠、選擇性去膠到先進(jìn)刻蝕后清洗的完整產(chǎn)品譜系。
公司快速熱處理設(shè)備(RTP)技術(shù)先進(jìn),覆蓋常規(guī)與毫秒級兩大領(lǐng)域。公司核心產(chǎn)品采用晶圓雙面加熱、氬氣水壁電弧燈與閃光燈退火等核心技術(shù),能夠有效控制先進(jìn)制程中的熱應(yīng)力和圖形保形性問題。設(shè)備性能參數(shù)處于國際主流水平,在10nm及以下節(jié)點具有良好兼容性,已在DRAM、3DNAND等存儲產(chǎn)線及高性能邏輯芯片產(chǎn)線完成驗證并實現(xiàn)規(guī);瘧(yīng)用。
公司平臺化布局干法刻蝕和等離子體表面處理設(shè)備。公司干法刻蝕和等離子體表面處理產(chǎn)品覆蓋通用刻蝕、選擇性刻蝕及原子層級表面處理等多類場景,產(chǎn)品具備優(yōu)異的等離子均勻性、刻蝕一致性與器件兼容性。設(shè)備已在晶圓制造前道工藝中實現(xiàn)規(guī);瘧(yīng)用,成功進(jìn)入多家國內(nèi)外頭部客戶供應(yīng)鏈,具備強(qiáng)適配能力與國產(chǎn)替代潛力。
公司在持續(xù)推進(jìn)成熟產(chǎn)品改進(jìn)的同時,不斷開展新產(chǎn)品開發(fā)。公司擁有發(fā)明專利445項,核心技術(shù)包括雙晶圓真空反應(yīng)腔設(shè)計、遠(yuǎn)程等離子體源技術(shù)等,關(guān)鍵性能指標(biāo)如生產(chǎn)效率、良率控制達(dá)到國際領(lǐng)先標(biāo)準(zhǔn)。2022年至2024年研發(fā)費用占營收比例均超過15%,持續(xù)投入構(gòu)筑技術(shù)壁壘。公司開發(fā)基于真空晶圓傳送平臺技術(shù)的新一代超高產(chǎn)能去膠設(shè)備和刻蝕設(shè)備,預(yù)計新設(shè)備產(chǎn)能較成熟設(shè)備的產(chǎn)能提高一倍。公司正積極開展對新一代快速熱退火尖峰退火設(shè)備以及自由基快速熱退火表面處理設(shè)備的研發(fā),目前已處于在研階段。
東吳證券表示,在“半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)替代”趨勢下,公司憑借技術(shù)積累與平臺化布局,去膠設(shè)備和快速熱處理設(shè)備業(yè)務(wù)全行業(yè)領(lǐng)先,已成長為全球前道設(shè)備領(lǐng)域具有代表性的中國企業(yè)。預(yù)計公司2025年至2027年歸母凈利潤分別為6.52億元、8.52億元和12.20億元,同比增速分別為20.52%、30.67%和43.19%,對應(yīng)EPS分別為0.22元、0.29元和0.41元,首次覆蓋給予“增持”評級。 記者 劉,|
(風(fēng)險提示:本欄目旨在介紹相關(guān)上市公司投資價值,不構(gòu)成投資建議。)
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